Recentment, els fabricants de làser xinesos han implementat amb èxit una solució d’automatització de làser de carbur de silici {0 {0} polzada de polzada, que va reduir molt les pèrdues, augmentar la velocitat de processament i va promoure la reducció de costos i la millora de l’eficiència en la indústria del carbur de silici.
Anteriorment, els fabricants de làser xinesos han pres el lideratge en el llançament de "{8- polzada d'equips de desplaçament làser de substrat de carbur de silici conductiu" i han guanyat el reconeixement de "El primer equip domèstic" el gener d'aquest any.
En comparació amb els materials tradicionals de silici, el carbur de silici té una bretxa de banda més àmplia, un punt de fusió més elevat, una major mobilitat d’electrons i una major conductivitat tèrmica. Pot funcionar de manera estable en condicions d’alta temperatura i d’alta tensió. S’ha convertit en un material clau per a l’actualització de les noves indústries d’energia i semiconductors i ha promogut revolucions tecnològiques en vehicles elèctrics, generació d’energia fotovoltaica, xarxes intel·ligents, comunicacions sense fils i altres camps.
No obstant això, la proporció de costos de material de substrat en el cost global continua sent elevat, cosa que dificulta greument la industrialització a gran escala i la promoció de dispositius de carbur de silici. Una de les maneres importants de reduir costos i augmentar l’eficiència és fabricar materials de substrat de carbur de silici més grans. En comparació amb els substrats 6- polzada i {8- polzada, 12- polzada Els materials poden ampliar encara més la zona disponible per a la fabricació de xips en una sola hòstia, augmentar significativament la producció i reduir els costos unitaris en les mateixes condicions de producció.
Al desembre de 2024, les empreses líders de carbur de silici domèstic han revelat la darrera generació de substrats de carbur de silici de {1} polzada. Mentre dirigien la tendència de desenvolupament internacional, també van plantejar la demanda de talla de substrats de carbur de silici de mida ultra-grand per sobre de 12 polzades.
Correspondentment, els fabricants de làser xinesos han llançat la "tecnologia de desplaçament de substrat de carbur de silici de mida ultra-grand de mida gran" a la velocitat més ràpida, prenent el lideratge per resoldre el problema de "tallar" de {{2} polzada i substrats de carbur de silici més grans.
Aquesta tecnologia pot aconseguir un posicionament precís, un processament uniforme i un despullament continu dels lingots de carbur de silici. Els seus avantatges destacats són:
- Automatizació- S’ha realitzat l’automatització d’aprimament d’ingots, processament de làser, despullament de substrats i altres processos. Cada procés es pot operar en paral·lel i la línia de producció es pot desplegar de manera flexible.
- Pèrdua baixa- No hi ha pèrdua de material durant el procés de desplaçament làser. Només cal eliminar sobre 80-100 μm de material de les superfícies superiors i inferiors del procés d’aprimament posterior. En comparació amb la tecnologia de tall tradicional, la pèrdua de matèries primeres es redueix molt.
- Alta eficiència-El temps de producció del substrat s’escurça molt, que accelera la iteració de recerca i desenvolupament de la tecnologia de substrats de carbur de silici de mida ultra-gran. També es pot utilitzar per a la producció massiva a gran escala de substrats de carbur de silici de mida gran en el futur, promovent la reducció de costos i la millora de l'eficiència de la indústria.
Com a indústria típica intensiva en tecnologia, la indústria de materials semiconductors ha estat afectada per la manca de tecnologia i talents de gamma alta, i els anys del bloqueig de la tecnologia estrangera han dificultat el ràpid desenvolupament de la indústria. L’equip fundador del fabricant de làser de la Xina provenia del laboratori de tecnologia de nanofotònics i instruments de la West Lake University. L’equip es dedica profundament al camp de l’optoelectrònica micro-nano durant molts anys, incloent-hi la tecnologia de processament de micro-nano i els equips d’instruments, la teoria de fotons micro-nano i els dispositius optoelectrònics, les teories i les tecnologies clau per a aplicacions intel·ligents, etc., proporcionant un fort suport a la innovació i reserves tècniques per als fabricants de làser de la Xina.
Segons la previsió de Yole, el 2027, la mida del mercat global dels dispositius de potència de carbur de silici arribarà als 6.700 milions de dòlars americans, amb una taxa de creixement anual composta del 33,5%, convertint -se en un material bàsic en el camp de la nova energia i els semiconductors. Les ulleres AR Hot també utilitzen "carbur de silici" com a material de la lent per completar la transició de rendiment. S’espera que la mida del mercat global de les ulleres AR superi els 300 milions de dòlars el 2030, convertint -se en un altre “nou oceà blau” per a l’aplicació de materials de carbur de silici. Es creu que amb l’avançament continu dels processos de fabricació i l’expansió contínua dels camps d’aplicació, els dispositius de carbur de silici acabaran brillar als camps semiconductors i òptics.
MRJ-Laser és una empresa professional d’instruments i equips que integra R + D, producció i vendes. Està posicionat per resoldre els punts de dolor de la indústria de la fabricació avançada, aplicar la tecnologia bàsica de la informació optoelectrònica micro-nano i proporcionar instruments i equips de caracterització de processament de precisió. Amb la missió d’ajudar tots els avenços tecnològics, continua promovent el desenvolupament de tecnologies innovadores en la indústria d’optoelectrònica.
MRJ-Laser ha aplicat una tecnologia de processament làser ultrafast a la indústria de processament de substrats de carbur de silici, ha completat el desenvolupament d’equips de desplaçament de làser de substrat de carbur de silici i sistemes integrats, i va aconseguir l’aplicació d’empreses líders del substrat de carbur de silici. El producte ha estat certificat com el primer equipament a la Xina. La tecnologia rellevant també té un potencial d’aplicació prometedor en el processament de nous materials de substrat com el nitrur de gali i el diamant.
